штат: | |
---|---|
Количество: | |
Изделие имеет тонкостенную структуру, а плоскостность должна быть в пределах 0,03, чтобы обеспечить равномерную контактную поверхность во время испытаний изделия.
Процесс обработки:
Использование 3-х + 4-х осевого процесса обработки не только обеспечивает плоскостность, но также обеспечивает реализацию того же процесса для боковых элементов, обеспечивая контроль точности позиционирования станка.
Приложение:
Медицинские реагенты и нуклеиновые кислоты.
Изделие имеет тонкостенную структуру, а плоскостность должна быть в пределах 0,03, чтобы обеспечить равномерную контактную поверхность во время испытаний изделия.
Процесс обработки:
Использование 3-х + 4-х осевого процесса обработки не только обеспечивает плоскостность, но также обеспечивает реализацию того же процесса для боковых элементов, обеспечивая контроль точности позиционирования станка.
Приложение:
Медицинские реагенты и нуклеиновые кислоты.